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内容説明 Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD’s application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
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最終調査日時
2013/04/21 (Sun) 02:51:21
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在庫状態
2013/04/21 (Sun) 02:51:21
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2012/04/23 (Mon) 19:10:44
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